成果简介
本发明涉及一种ZnO薄膜专用光照辅助生长金属有机物化学气相沉积（MOCVD）设备系统及其工艺方法和p型掺杂技术。其特征是在反应室内装有光源，在反应室侧壁上装有带绝缘电极的法兰盘，还添加了光源控制电源，光源通过导线连接在绝缘电极上，再连接到光源控制电源上。本发明的优点是可以降低加热片的温度，可以快速升温，快速降温，进行衬底快速调制加热生长ZnO薄膜；光照还有利于杂质源的离化和杂质激活；同时又能解决p型ZnO见光退化不稳定问题，达到老化和稳定p型掺杂的目的。
研究团队
电子科学与工程学院杜国同教授课题组。
成果成熟度
实验室成果。
应用领域及市场前景
本发明属于半导体发光器件及其制备方法技术领域，可应用于信息处理、信息传输等领域，市场前景广泛。
合作方式
合作开发、技术入股、技术转让、实施许可。
